Prototaip Sumber Cahaya EUV China Diperkenalkan di Shanghai, Pengeluaran Besar-besaran Masih Tiga hingga Lima Tahun Lagi

Prototaip sumber cahaya diperkenalkan kepada umum

Startup Shanghai Langdao Suiyan mempamerkan prototaip sumber cahaya ultraungu ekstrem (EUV) di Pameran Industri Antarabangsa China ke-26, sambil menyatakan bahawa 90 peratus komponennya dibuat di China dan pengeluaran besar-besaran masih tiga hingga lima tahun lagi. Pameran itu, yang dilaporkan pada Oktober 2026, memperlihatkan kepada umum satu komponen khusus dalam usaha China membangunkan teknologi pembuatan cip termaju: peralatan yang direka untuk menghasilkan cahaya bagi mencetak corak litar yang amat kecil.

Eksibit itu ialah sumber cahaya EUV, komponen utama mesin litografi. Mesin lengkap juga memerlukan optik berketepatan tinggi, platform untuk meletakkan wafer silikon, sistem vakum dan kawalan yang memastikan semua bahagian itu berfungsi bersama. Jadual waktu Langdao merujuk kepada pembangunan sumber cahaya tersebut, dengan kakitangan menyatakan peningkatan output dan operasi yang boleh dipercayai dalam tempoh panjang sebagai tugas utama seterusnya.

Wakil syarikat berkata prototaip itu boleh digunakan untuk ujian pendedahan cip. Spesifikasi produk yang dikaitkan dengan syarikat itu menyenaraikan output EUV melebihi 15 watt dan operasi berterusan melebihi 100 jam bagi sistem kuasa rendah FlintNano. Tiada keputusan ujian bebas atau hasil pendedahan terperinci daripada prototaip yang dipamerkan didedahkan, menyebabkan prestasinya dalam ujian pembuatan cip sebenar masih belum dapat dipastikan.

Pembangunan ini penting kerana pengeluar cip China tidak boleh membeli mesin litografi EUV daripada pembekal Belanda, ASML, akibat sekatan eksport. Sumber cahaya domestik berpotensi menyokong rantaian bekalan alternatif pada masa depan. Buat masa ini, pameran di Shanghai itu menunjukkan sebuah syarikat muda sedang membangunkan salah satu komponen yang paling mencabar, dengan anggaran syarikat itu sendiri masih merangkumi bertahun-tahun kerja kejuruteraan.

Apa yang dipamerkan di Shanghai?

Prototaip Langdao ditempatkan di ruang yang sederhana dalam kawasan pameran Shanghai, di dewan teknologi inovasi pameran itu. Rupa luarnya yang kasar menarik perhatian, sementara kakitangan menolak temu bual rasmi dengan media. Laporan lain mengenai pameran itu merekodkan penerangan teknikal daripada wakil syarikat, termasuk dakwaan tentang bahagian komponen tempatan dan jangkaan jadual pengeluaran.

Langdao berkata pihaknya hadir atas jemputan Pusat Inovasi Teknologi Shanghai. Kakitangan menyifatkan penyertaan itu sebagai cara untuk menunjukkan bahawa sebuah pasukan China sedang mengusahakan penjanaan cahaya EUV, selain menggalakkan orang ramai bersabar dengan proses pembangunan yang memerlukan masa.

Litografi berfungsi dengan mendedahkan salutan peka cahaya pada wafer silikon kepada suatu corak. Langkah pembuatan seterusnya menukarkan corak itu kepada bahagian-bahagian litar elektronik. Cahaya EUV mempunyai panjang gelombang kira-kira 13.5 nanometer, membolehkan peralatan yang sesuai mencetak corak yang amat halus. Menghasilkan cahaya itu hanyalah permulaan: mesin tersebut juga perlu mengarahkannya dengan tepat dan memberikan pendedahan yang konsisten.

Spesifikasi yang diterbitkan

FlintNano LPP-OXXO Langdao ialah sistem kuasa rendah yang mempunyai spesifikasi paling terperinci setakat ini. Syarikat itu meletakkan keluarga FlintNano dalam fasa pembangunan produk dan pengkomersialan, manakala keluarga FlintMicro-LPP berkuasa lebih tinggi telah menyelesaikan kerja prinsip dan kebolehlaksanaan.

Spesifikasi yang dikaitkan dengan Langdao termasuk:

• Laser pemacu berkadar 1,000 watt, beroperasi pada frekuensi antara 1 hingga 20 kilohertz.
• Kecekapan penukaran melebihi 2 peratus dan output EUV melebihi 15 watt.
• Operasi berterusan melebihi 100 jam.
• Saiz plasma 60 mikrometer.
• Angka kestabilan plasma dalam lingkungan 3 peratus RMS dan angka kestabilan output tenaga sebanyak 5 peratus.

Watt mengukur kuasa, atau kadar tenaga dibekalkan. Kadar laser 1,000 watt merujuk kepada kuasa yang dibekalkan oleh laser pemacu; kadar output EUV pula merujuk kepada cahaya berguna yang dihasilkan oleh sistem. Kedua-duanya ialah peringkat proses yang berbeza. Kilohertz mengukur frekuensi pengulangan, dengan 1 kilohertz bermaksud 1,000 kitaran setiap saat.

Ukuran kestabilan RMS merumuskan turun naik sepanjang tempoh pengukuran. Bagi pengeluar cip, perkara praktikal yang menjadi perhatian ialah sama ada setiap pendedahan menerima jumlah cahaya yang cukup konsisten. Perubahan boleh menjejaskan ketepatan pembentukan corak litar pada salutan wafer.

Bagaimana cahaya dijana

Langdao menggunakan pendekatan plasma teraruh laser, biasanya disingkatkan sebagai LPP. Dalam pendekatan ini, laser berkuasa tinggi menyinari titisan timah yang amat kecil, lalu menghasilkan plasma yang sangat panas dan memancarkan cahaya EUV. Plasma ialah keadaan jirim apabila atom kehilangan sebahagian elektronnya. Cermin pengumpul mengumpulkan sebahagian cahaya yang dipancarkan dan mengarahkannya ke sistem pendedahan.

Mesin EUV komersial ASML juga menggunakan sumber LPP. Cabaran kejuruteraan terletak pada memastikan proses itu berulang dengan tepat, mengumpulkan cahaya berguna yang mencukupi dan melindungi peralatan sensitif daripada kesan plasma. Aliran titisan timah yang stabil, laser pemacu berkuasa tinggi dan cermin pengumpul yang tahan lama semuanya perlu berfungsi bersama.

Bidang perniagaan Langdao yang lebih luas mencerminkan keperluan tersebut. Selain sumber cahaya EUV, syarikat itu menyatakan bahawa ia turut mengusahakan laser karbon dioksida berkuasa tinggi dan perisian simulasi plasma. Laser itu menyediakan perkakasan pemacu, manakala perisian simulasi membantu jurutera mengkaji tingkah laku plasma dan melaraskan keadaan operasi.

Usaha penyelidikan China turut merangkumi pendekatan alternatif, seperti plasma nyahcas teraruh laser dan penjanaan cahaya berasaskan pemecut. Projek-projek itu mempunyai jadual pembangunan tersendiri. Anggaran awam Langdao kekal tiga hingga lima tahun sebelum sumber cahayanya mencapai pengeluaran besar-besaran.

Mengapa kuasa lebih tinggi dan jangka hayat lebih panjang penting

Sistem EUV komersial memerlukan sumber cahaya yang menghasilkan kuasa dalam lingkungan ratusan watt, serta operasi yang boleh dipercayai semasa pembuatan intensif. Output Langdao yang diterbitkan, iaitu melebihi 15 watt, meletakkan sistem kuasa rendahnya dalam kategori operasi yang berbeza. Untuk digunakan di kilang, jumlah cahaya berguna yang dibekalkan perlu ditingkatkan sambil memastikan peralatan kekal stabil.

Cahaya berguna yang lebih banyak boleh membantu sistem litografi mendedahkan wafer dengan lebih pantas. Hal ini mempengaruhi jumlah wafer yang boleh diproses oleh sesebuah kilang dan kos setiap pendedahan. Kebolehpercayaan sama pentingnya: gangguan pada mesin boleh melambatkan pengeluaran dan mengurangkan nilai sumber yang selainnya berkuasa tinggi.

Cermin pengumpul menimbulkan cabaran khusus kerana beroperasi berhampiran plasma bertenaga tinggi. Penjana titisan timah juga mesti terus menghantar titisan ke tempat dan pada masa yang tepat. Perubahan kecil dalam mana-mana proses boleh menjejaskan cahaya yang sampai ke wafer.

Operasi Langdao yang dinyatakan melebihi 100 jam bersamaan lebih daripada empat hari. Pelanggan kilang juga memerlukan maklumat tentang sela penyelenggaraan, penggantian komponen dan prestasi sepanjang kitaran operasi berulang. Kakitangan mengaitkan kerja kejuruteraan yang masih berbaki secara langsung dengan output dan kestabilan.

Maksud 90 peratus komponen tempatan

Wakil syarikat berkata 90 peratus komponen prototaip itu dihasilkan secara tempatan, dengan kebanyakan bahagian teras dibangunkan secara dalaman. Mereka juga menyatakan kesukaran mendapatkan beberapa komponen import dan berkata alternatif China masih mempunyai jurang kestabilan dalam bidang tertentu.

Langdao tidak menyatakan sama ada angka 90 peratus itu dikira berdasarkan bilangan komponen, nilai atau kaedah lain. Bagi pembaca, persoalan yang berguna ialah bahagian mana yang masih sukar digantikan dan bagaimana bahagian itu menjejaskan kebolehpercayaan keseluruhan sistem. Sebilangan kecil komponen pun boleh merangkumi peralatan yang penting untuk operasi berterusan.

Kakitangan enggan mengenal pasti komponen import yang masih digunakan. Penjelasan mereka menunjukkan bahawa cabaran kejuruteraan melibatkan rangkaian pembekal, bukan hanya kerja pemasangan sebuah syarikat. Komponen domestik yang lebih baik perlu dihasilkan dengan kualiti konsisten dan jangka hayat operasi yang boleh diharapkan.

Bagi kilang wafer China, sumber tempatan yang matang berpotensi mengurangkan pendedahan kepada sekatan terhadap peralatan dan alat ganti pada masa depan. Tugas semasa ialah memastikan reka bentuk domestik dapat menghasilkan komponen yang berfungsi bersama secara konsisten dalam tempoh panjang.

Startup yang disokong pelabur industri cip

Langdao ditubuhkan pada 2024. Pengasas Wang Hao dan pasukannya memanfaatkan penyelidikan daripada Makmal Nyahcas Gas dan Plasma Universiti Tsinghua, dengan tumpuan pada teknologi LPP untuk sumber litografi EUV.

Pembangunan syarikat itu disertai beberapa pusingan pembiayaan. Pelabur yang dinamakan dalam laporan mengenai pembiayaan itu termasuk Woyan Capital dan China Fortune-Tech Capital, yang mempunyai hubungan dengan Semiconductor Manufacturing International Corporation, pengeluar cip kontrak terkemuka China. Sokongan sedemikian menghubungkan startup itu dengan pelabur yang memahami peralatan dan pembuatan semikonduktor.

Urutan yang dilaporkan merangkumi penubuhan, pembiayaan dan pameran kepada umum:

• 2024: Langdao ditubuhkan dan memulakan projek sumber cahaya EUV.
• Oktober 2025: Suiyue Ventures, yang dikaitkan dengan Zhangjiang Hi-Tech, menyediakan pembiayaan peringkat awal.
• Januari 2026: Syarikat itu menyelesaikan satu lagi pusingan pembiayaan peringkat awal.
• Julai 2026: Langdao menyelesaikan pusingan Siri A.
• Oktober 2026: Prototaip sumber cahaya itu dipamerkan kepada umum di pameran industri Shanghai.

Pembiayaan menyediakan sumber untuk peralatan, pengambilan kakitangan dan pembangunan selanjutnya. Jadual waktu Langdao sendiri masih memperuntukkan beberapa tahun kerja kejuruteraan selepas kemunculan sulungnya kepada umum, sekali gus menunjukkan jurang antara pembiayaan prototaip dengan pembekalan produk industri yang boleh dihasilkan secara konsisten.

Kawalan eksport terus mendorong pembangunan domestik

ASML ialah satu-satunya pembekal komersial sistem litografi EUV lengkap. Sekatan menghalang penjualan sistem tersebut ke China, menjadikan alternatif domestik keutamaan strategik bagi pengeluar China. ASML memperkukuh keupayaan sumber cahayanya melalui pengambilalihan Cymer pada 2013, sebahagian daripada pembangunan industri jangka panjang di sebalik peralatan hari ini.

Pengeluar cip China terus menggunakan peralatan ultraungu dalam (DUV) untuk pengeluaran. DUV menggunakan panjang gelombang yang lebih besar berbanding EUV. Pengeluar boleh menggunakan pempolaan berbilang corak, yang membahagikan corak litar kompleks kepada beberapa langkah pemprosesan, untuk memperluas keupayaan mesin tersebut. Lebih banyak langkah menambah kerumitan dan kos pembuatan.

Ketua pegawai eksekutif ASML, Christophe Fouquet, menyuarakan keraguan tentang seberapa cepat China dapat menandingi teknologi syarikat itu. Ketika bercakap dalam panggilan pelabur, beliau menggambarkan jarak yang masih perlu ditempuh China:

masih terlalu, terlalu jauh

Anggaran Langdao, iaitu tiga hingga lima tahun, memberikan ukuran yang lebih khusus bagi projeknya sendiri. Jika dikira dari kemunculan yang dilaporkan pada Oktober 2026, anggaran itu menunjukkan sekitar 2029 hingga 2031 sekiranya pembangunan berjalan seperti yang dijangka. Jadual waktu itu khusus untuk sumber cahaya, sedangkan mesin litografi lengkap memerlukan sistem utama lain mencapai tahap prestasi yang serasi.

Kemajuan di tempat lain memberi perspektif tentang EUV

Pembekal China turut mengembangkan keupayaan pada peringkat pembuatan selain litografi. Di pameran semikonduktor di Shenzhen yang diadakan dalam tempoh sama, Hwatsing mempamerkan mesin implantasi ion, Leadmicro mempamerkan peralatan untuk mendepositkan filem nipis, dan Piotech mengumumkan teknologi pemendapan filem karbon untuk cip memori dan logik.

Perkembangan itu penting kerana kilang wafer bergantung pada pelbagai jenis peralatan. Implantasi ion mengubah sifat elektrik kawasan terpilih pada silikon. Pemendapan menambah lapisan bahan nipis. Litografi menentukan corak yang memandu kerja seterusnya. Kemajuan merentas peringkat ini boleh meningkatkan penggunaan peralatan domestik walaupun pembangunan EUV masih diteruskan.

Bernstein Research meramalkan pembekal domestik akan menguasai 52 peratus pasaran peralatan fabrikasi wafer China menjelang 2028, berbanding anggaran 28 peratus pada 2026. Ini merupakan peningkatan unjuran sebanyak 24 mata peratusan. Ramalan itu meliputi pasaran peralatan yang jauh lebih luas berbanding litografi EUV.

Perkembangan penting Langdao yang seterusnya berkaitan dengan peningkatan output, kebolehpercayaan berterusan dan prestasi pendedahan sepanjang tempoh kejuruteraan yang dinyatakan. Pengguna internet China juga mempersoalkan sama ada publisiti mengenai pameran itu bertujuan mendapatkan dana dan membangkitkan semangat patriotik. Penerbitan keputusan operasi terperinci akan memberikan bakal pelanggan dan pelabur maklumat yang lebih nyata tentang kemajuan produk itu.

Perkara Utama

• Langdao Suiyan mempamerkan prototaip sumber cahaya EUV di Shanghai, dengan kakitangan syarikat mendakwa 90 peratus komponennya dibuat di dalam negara.
• Eksibit itu ialah sumber cahaya, satu daripada beberapa sistem utama yang diperlukan dalam mesin litografi EUV lengkap.
• Spesifikasi FlintNano yang diterbitkan termasuk output EUV melebihi 15 watt dan operasi melebihi 100 jam.
• Kakitangan menganggarkan pengeluaran besar-besaran masih tiga hingga lima tahun lagi, dengan kuasa dan kebolehpercayaan sebagai tugas utama kejuruteraan.
• Syarikat itu ditubuhkan pada 2024 dan menarik pelabur yang mempunyai hubungan dengan industri semikonduktor China.
• Sekatan eksport terhadap mesin EUV ASML terus mendorong usaha China membangunkan peralatan domestik.